簡(jiǎn)要描述:SuperViewW13d光學(xué)輪廓測(cè)量?jī)x可以測(cè)到12mm,也可以測(cè)到更小的尺寸,XY載物臺(tái)標(biāo)準(zhǔn)行程為140*110mm,局部位移精度可達(dá)亞微米級(jí)別,鏡頭的橫向分辨率數(shù)值可達(dá)0.4um,Z向掃描電機(jī)可掃描10mm范圍,縱向分辨率可達(dá)0.1nm級(jí)別,因此可測(cè)非常微小尺寸的器件。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
品牌 | CHOTEST/中圖儀器 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
3d光學(xué)輪廓測(cè)量?jī)x測(cè)量精度高,測(cè)量單個(gè)精細(xì)器件的過(guò)程用時(shí)2分鐘以內(nèi),確保了高款率檢測(cè)。白光干涉儀的特殊光源模式,可以廣泛適用于從光滑到粗糙等各種精細(xì)器件表面的測(cè)量。
對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。
SuperViewW13d光學(xué)輪廓測(cè)量?jī)x以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對(duì)器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過(guò)系統(tǒng)軟件對(duì)器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù),從而實(shí)現(xiàn)器件表面形貌3D測(cè)量??蓮V泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領(lǐng)域中??蓽y(cè)各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。
1)設(shè)備提供表征微觀形貌的粗糙度和臺(tái)階高、角度等輪廓尺寸測(cè)量功能;
2)測(cè)量中提供自動(dòng)對(duì)焦、自動(dòng)找條紋、自動(dòng)調(diào)亮度等自動(dòng)化輔助功能;
3)測(cè)量中提供自動(dòng)拼接測(cè)量、定位自動(dòng)多區(qū)域測(cè)量功能;
4)分析中提供校平、圖像修描、去噪和濾波、區(qū)域提取等四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;
5)分析中提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;
6)分析中同時(shí)提供一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能。
型號(hào) | W1 | |
光源 | 白光LED | |
影像系統(tǒng) | 1024×1024 | |
干涉物鏡 | 標(biāo)配:10× 選配:2.5×、5×、20×、50×、100× | |
光學(xué)ZOOM | 標(biāo)配:0.5× 選配:0.375×、0.75×、1× | |
標(biāo)準(zhǔn)視場(chǎng) | 0.98×0.98㎜(10×物鏡,光學(xué)ZOOM 0.5×) | |
XY位移平臺(tái) | 尺寸 | 320×200㎜ |
移動(dòng)范圍 | 140×100㎜ | |
負(fù)載 | 10kg | |
控制方式 | 電動(dòng) | |
Z軸聚焦 | 行程 | 100㎜ |
控制方式 | 電動(dòng) | |
形貌重復(fù)性 | 0.1nm | |
粗糙度RMS重復(fù)性 | 0.005nm | |
臺(tái)階測(cè)量 | 準(zhǔn)確度:0.3%;重復(fù)性:0.08%(1σ) | |
可測(cè)樣品反射率 | 0.05%~100% | |
主機(jī)尺寸 | 700×606×920㎜ |
SuperViewW1光學(xué)輪廓儀可以測(cè)到12mm,也可以測(cè)到更小的尺寸,XY載物臺(tái)標(biāo)準(zhǔn)行程為140*110mm,局部位移精度可達(dá)亞微米級(jí)別,鏡頭的橫向分辨率數(shù)值可達(dá)0.4um,Z向掃描電機(jī)可掃描10mm范圍,縱向分辨率可達(dá)0.1nm級(jí)別,因此可測(cè)非常微小尺寸的器件。測(cè)量大尺寸樣品時(shí),支持拼接功能,將測(cè)量的每一個(gè)小區(qū)域整合拼接成完整的圖像,拼接精度在橫向上和載物臺(tái)橫向位移精度一致,可達(dá)0.1um。
在3C領(lǐng)域,可以測(cè)量藍(lán)寶石屏、濾光片、表殼等表面粗糙度;
在LED行業(yè),可以測(cè)量藍(lán)寶石、碳化硅襯底表面粗糙度;
在光纖通信行業(yè),可以測(cè)量光纖端面缺陷和粗糙度;
在集成電路行業(yè),可以測(cè)量硅晶片或陶瓷晶片表面粗糙度;
在EMES行業(yè),可以測(cè)量臺(tái)階高度和表面粗糙度;
在軍事領(lǐng)域,可以測(cè)量藍(lán)寶石觀察窗口表面粗糙度。
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